到了FINFET時代,node的概念就更混亂了,簡直是一個數(shù)字各自表述。不過基本上intel22nm=TSMC16nm=SAMSUNG14nm,看上去只有Intel的數(shù)字比較靠譜,其他廠的水分都太高了
在儲存芯片方面,相對簡單一點(diǎn),不過最小pitch的定義各廠也略有不同,micron是用word line的pitch, 韓系廠則是用active的pitch. 不過最簡單的還是看DRAM的容量
最后再解釋一下為什么定義half pitch比單純追求柵極長度的最小要難:對于光學(xué)成像的光刻技術(shù),最小的分辨率是在于解析兩個最小間距的圖形的能力。也就是說做一個圖形,再小都可以做到,但是要把兩個最小圖形區(qū)分開來才是光刻的極限。道理跟光學(xué)上的瑞利判據(jù)是一個道理,所以存儲芯片的14nm就要比邏輯芯片的14nm的難度高。不過這是純粹從光學(xué)角度上來說的,其實存儲芯片的設(shè)計和良率要求與邏輯芯片差異很大,所以綜合難度(defect, OPC)上來說其實差不多的, 所以現(xiàn)階段半導(dǎo)體的最高水平還是以邏輯芯片為指標(biāo)的,看intel, Samsung 和TSMC拼的你是我活就知道了